РУС / ENG

Оборудование для нанесения покрытий

 
new

Установка для нанесения покрытий «ННВ»

Модели: ННВ

Установка типа «ННВ» предназначена для ионно-плазменного нанесения в вакууме покрытий на различные изделия, формирования переходных слоев между основой и покрытием, осаждения эрозионностойких и износостойких покрытий, модификации материалов и изделий. 

Выполнение нескольких этапов, проходящих в едином рабочем цикле:
- ионно-плазменная очистка и активация поверхности изделий;
- ионно-плазменное нанесение функциональных покрытий;
- формирование упрочненного азотированного подслоя.
 
Установки данного типа могут применяться на моторостроительных заводах и заводах общего машиностроения, где необходимо проводить нанесение покрытий на изделия.
 
Установка состоит из блока вакуумной камеры с механизмами, устройствами и электрическими шкафами, обеспечивающими проведение технологического процесса ионно-плазменного нанесения в вакууме покрытий на различные изделия.
Рабочая камера шестигранной формы, водоохлаждаемая. На гранях камеры установлены три планарных испарителя, патрубок вакуумной системы и внешний пирометр. Одна грань выполнена в виде фланца для загрузки и выгрузки обрабатываемых изделий.
Камера закрывается откатной дверью с рубашкой охлаждения.
Дверь перемещается на тележке по направляющим рамы. На раме также установлена и рабочая камера. Тележка приводится в движение асинхронным электродвигателем через мотор-редуктор. Скорость перемещения двери регулируется частотным приводом.
На двери консольно закреплен вращатель с 12-ю шпинделями для установки оснастки с обрабатываемыми изделиями. Вращение шпинделя производится через гермоввод от мотор-редуктора с асинхронным электродвигателем. Скорость вращения шпинделя регулируется частотным приводом.
Напуск технологических газов производится через натекатель газовый цифровой 3-х канальный "Мета-хром" с вакуумметром, установленный в силовом шкафу.
Контроль температуры изделий возможен с помощью устанавливаемой на вращателе термопары и пирометра.
 
При физическом осаждении (англ. physical vapour deposition; сокращённо - PVD) материал покрытия переходит из твердого состояния в газовую фазу в результате испарения под воздействием тепловой энергии или в результате распыления за счет кинетической энергии столкновения частиц материала. Нанесение покрытий методом PVD проводится при температуре до 450°С, что практически не накладывает ограничения по используемым материалам, на которые наносится покрытие. PVD-процессы проводят в вакууме или в атмосфере рабочего газа при достаточно низком давлении (около 10-2 мбар). Это необходимо для облегчения переноса частиц от источника (мишени) к изделию (подложке) при минимальном количестве столкновений с атомами или молекулами газа. Это же условие определяет обязательность прямого потока частиц. В результате покрытие наносится только на ту часть изделия, которая ориентирована к источнику частиц. Скорость осаждения зависит от относительного расположения источника и материала. Для равномерного нанесения покрытия необходимо систематизированное движение материала или применение нескольких, определенным образом расположенных, источников. В то же время, поскольку покрытие наносится только на поверхности "в прямой видимости источника", метод позволяет селективно наносить покрытие только на определенные части поверхности, оставляя другие без нанесенного слоя. Основными факторами, определяющими качество покрытия, нанесенного методом физического осаждения, являются чистота исходных материалов и реакционного газа, а также необходимый уровень вакуума.
Процессы протекают в среде инертного газа в присутствии реакционного газа (например, азота и/или ацетилена) при отрицательном напряжении смещения на покрываемом материале.
Толщина покрытия определяется расходом испаряемого вещества с момента открытия заслонок испарителей.
 

Назад

 

Основные технические характеристики

Наименование параметров, единицы измерения

Значение параметров

Напряжение питающей сети, В

380±10%

Номинальная частота, Гц

50±1

Число фаз

3

Потребляемая электрическая мощность установки, кВт

130

Размер напыляемого изделия, мм, не более (ДиамхВ):

800х1000

Масса напыляемого изделия, кг, не более:

80

Частота вращения шпинделя, об/мин

0,3 - 5

Количество позиций планетарного вращателя

12

Количество дуговых планарных испарителей, шт.

3

Размеры катода испарителя, мм

120х800х30

Количество рабочих газов, шт.

3

Предварительный вакуум в камере нанесения покрытий, Па, не более

4х10-3 – 6х10-3

Давление сжатого воздуха, Па (кг/см2), в пределах

4×105 – 6×105 (4–6)

Габаритные размеры установки, мм, не более (ДхШхВ)

4500х2950х2700

Масса установки (с источниками питания), кг, не более

3 000