「NNV-2」設備旨在真空中對各種產品進行離子等離子體沉積塗層，在基體和塗層之間形成過渡層，沉積耐侵蝕和耐磨塗層，並進行改性的材料和產品。
在一個週期內執行以下程序：
- 產品表面的離子等離子體清潔和活化；
- 功能塗層的離子等離子體應用；
- 形成強化氮化亞層。

「NNV-2」工廠由以下主要部分組成：
− 會議廳；
− 門；
− 框架；
− 蒸發器（3 個）；
− 真空系統；
− 旋轉器；
− 手推車；
− 氣動系統；
− 水冷系統；
− 氣體噴射系統；
− 控制櫃；
− 電源櫃；
− 電線；
− 保護屏。

工作室呈六角形。 腔室有水冷卻系統。 三個平面蒸發器、真空系統管道和外部高溫計安裝在腔室的兩側。 一個面製成法蘭形式，用於裝載和卸載加工產品。
該室由帶有冷卻套的滑動門封閉。
門在手推車上沿著框架導軌移動。 框架上還安裝有工作室。 小車由異步電動馬達透過齒輪馬達驅動。 門的移動速度由變頻器控制。
帶有 12 個主軸的旋轉器以懸臂方式安裝在門上，用於安裝帶有工件的設備。 主軸透過具有非同步電動機的齒輪馬達的密封引線旋轉。 主軸轉速由變頻驅動控制。

行星機構位於真空室的中心，蒸發器沿其周邊安裝。 為了預先清潔和激活基板表面，腔室配備了離子源和加熱元件。 隨著旋轉部件的均勻加熱，水和碳氫化合物蒸發，表面原子和分子的流動性增加。 為了清除表面的氧化膜和其他相對熱穩定的污染物，使用來自離子源的能量為1-1.5 keV 的離子束對其進行處理，並且在真空中對錶面進行預處理顯著提高了表面的附著力。保護膜。 該設備用於工業生產中塗敷各種類型的塗料。

製程氣體透過安裝在電源櫃內的帶有真空計的 3 通道數位氣體洩漏口釋放。
使用安裝在轉子上的高溫計和熱電偶進行溫度控制。

在物理沉積 (PVD) 中，塗層材料由於在熱能影響下蒸發或因材料顆粒碰撞動能而霧化而從固態轉變為氣相。 使用 PVD 方法在高達 450°C 的溫度下塗覆塗層，這實際上不會對塗覆塗層的材料施加限制。 PVD 製程在真空或相當低壓力（約 10^-2mbar）的工作氣體氣氛中進行。 這對於促進粒子從源（目標）轉移到產物（基材）與原子或氣體分子的碰撞次數最少是必要的。 同樣的條件決定了顆粒必須直接流動。 因此，塗層僅施加到產品朝向顆粒源的部分。 沉積速率取決於源和材料的相對位置。 對於均勻的塗層應用，材料的系統移動或使用多個特定位置的來源是必要的。 同時，由於塗層僅應用於「在來源的直接視線範圍內」的表面，因此該方法允許僅選擇性地塗覆表面的某些部分，而使其他部分沒有塗層。 決定物理沉積塗層品質的主要因素是原料和反應氣體的純度以及所需的真空度。

此過程在惰性氣體環境中、在反應氣體（例如氮氣和/或乙炔）存在下、在塗覆材料上施加負偏壓的情況下進行。
塗層的厚度取決於蒸發器風門打開那一刻起蒸發物質的消耗量。