1.目的。 使用的技術流程。
真空立式爐“PVV-15/25”專為鈦合金產品的熱處理而設計。
將產品在真空中加熱至所需溫度，保持在該溫度，然後在真空或氬氣環境中冷卻。 氬氣在閉合迴路中的強制循環加速了產品的冷卻：熔爐工作空間 - 熱交換器 - 通風裝置 - 熔爐工作空間。

2.物理過程的特徵。
箱式熱處理爐適用於中、小型零件的熱處理。 它們可用於任何類型的生產和任何加工技術。 它們可以用作獨立的設備或作為靈活的自動化系統的一部分。

3. 技術說明。 設計特點。 設備優勢。
1. 加熱室，
2. 頂蓋，
3. 底蓋，
4. 移動底蓋的機構，
5. 高架橋，
6. 鐵路，
7. 通風裝置，
8. 真空系統，
9. 氬氣入口系統，
10. 氣動系統，
11. 水冷卻系統，
12. 電力線路，
13. 控制系統。



此爐為圓筒形真空加熱室，安裝在棧橋上。 頂蓋和底蓋覆蓋了相機的兩端。 底蓋上有架子，上面安裝有導軌，用於裝載產品的設備。 底蓋與籠體一起沿軌道水平移動。 此後，移動機構將帶有籠子的底蓋垂直提升到腔室中。 液壓驅動系統轉動卡口環。 在處理過程中，卡口鎖會鎖定腔室。 頂蓋固定地連接至腔室。

3.1. 加熱室。
圓柱形加熱室由不銹鋼板製成。 室的端部有焊接法蘭。 該室有一個冷卻水冷夾套，分為 6 個區域。 該室配備有四個支撐板，用於安裝在棧橋上。
腔體內安裝有與頂部組裝的加熱部分。 薄板隔熱屏和加熱器絕緣體懸掛在放置在室內的銷釘上。 此部分包含6個鉬合金加熱器。
彈性機械密封件密封加熱室和蓋子的連接。 該室具有熱電偶、電流引線和必要管道的焊接入口。

3.2. 頂蓋。
頂蓋由焊接在凸緣上的兩個卷製底部製成。 底部由不銹鋼製成。 底部之間形成水冷腔。

3.3. 底蓋。
除了頂部之外，底蓋也由兩個捲邊底部製成。 螢幕隔熱裝置安裝在可拆卸的保護螢幕上。 爐蓋的設計有兩對由齒輪馬達驅動的輪子，是沿著軌道移動的自走式爐床。
運動機構的四個支架上均設有支撐面，用於固定底蓋。

3.4. 移動底蓋的機構。
用於移動底蓋的機構將加工後的產品與必要的設備一起從加熱室下方的位置裝載到加熱室中或將其卸載到加熱室中。 蓋子與產品的移動速度為 1.1 m/min。

3.6. 通風裝置。
通風裝置設計用於在惰性氣氛下對保持架進行強製冷卻。 從結構上看，此風扇為離心式，外殼為水冷。
風扇葉輪的旋轉由變頻電力驅動裝置控制，可改變惰性氣氛的循環速度。

3.7. 真空系統。
真空系統旨在在腔室中產生真空。 該系統是一組用於產生真空的裝置以及透過真空閥將它們與抽出體積連接的管道。 本系統由前真空幫浦和高真空管路的組合管路組成。 安裝在蒸汽油泵上的閥門在停電時會自動關閉，防止油從泵中逸出進入管道。
真空系統需要大量感測器來測量中真空和高真空。 該工廠有一個空氣準備裝置，可使所有生產線上安裝的氣動閥可靠運作。

3.8. 氬氣導入系統
氬氣入口系統設計用於將氣體供應到腔室中。 氬氣入口系統由接收器和帶有截止閥的供應管路組成。

3.9. 氣動系統。
氣動系統控制真空閥的氣動驅動，並提供加熱室的軟管密封件壓縮空氣。 氣動系統包括空氣準備裝置、氣動分配裝置和必要的供應管路。

3.10. 水冷卻系統。
水冷系統供應和排出熱處理過程中冷卻爐和真空幫浦所需的水。

3.11. 電氣線路。
電氣線路為加熱室、變壓器、電動機、氣動閥、液壓站的電流引線提供電源，並保證監控和控制訊號的傳輸，由母線、電氣線束組成。電線、必要的保護蓋和盒子

3.12. 液壓驅動系統。
液壓驅動系統是驅動卡口鎖液壓缸的動力裝置。 液壓驅動系統透過裝載控制台開啟和關閉。

3.13. 支架。
此支架用於維修水冷系統歧管、進氣控制面板和動力裝置。 氣動系統的空氣製備裝置也安裝在棧橋上。

3.14. 控制系統。
該爐配備兩級控制系統，確保製程在服務和自動模式下進行。
控制系統的下層使用可程式邏輯控制器。
該應用程式提供：
a) 手動模式 – 爐子的機構和子系統由工業電腦的觸控螢幕控制，以在自動模式（位於控制面板的前面板上）出現故障時完成熱處理循環;
b) 自動模式－爐子的自動循環操作是使用應用程式進行的，需得到工業電腦的許可。

最頂層是一台工業計算機。
頂層軟體執行：
a) 圖形化多路調度介面，支援智慧控制功能。
b) 在 PC 螢幕上顯示裝置機械裝置和感測器的狀態。
c) 即時顯示安裝參數的目前值。
d) 參數的輸入和修正，顯示參數值的「歷史」和各製程操作的模式。
e) 自動產生資料庫記錄，將資料庫轉換為最常用的資料庫系統的格式。