「UMP-500」設備設計用於透過氣體循環方法沉積保護塗層。
這種沉積方法用於用鉻保護鋼的表面。 將氣態氯化鉻通過加熱至 1000°C 的鋼表面，確保形成鉻塗層，透過鉻含量高達 30% 的鐵鉻合金中間層牢固地粘附在基體上。 此方法的優點是塗層孔隙率低，並且可以對複雜結構的內表面和零件進行金屬化； 缺點是由於界面處的擴散過程或化學反應而導致生產率低。
在真空方法中，鍍鉻產品要麼與鉻粉接觸，要麼與其保持一定距離。 真空有利於鉻的蒸發及其轉移到被處理的表面。 由於在高溫下形成含鉻氣相，導致表面被鉻飽和。
「UMP-500」是一種現代化設備，其特點是設計緊湊，配備塗層反應器。





“UMP-500”的設計。
該裝置由主要部分組成：
1、真空室；
2、電爐爐內部分；
3.絲網加熱器（馬弗）；
4、升降機構；
5. 底座；
6、真空系統；
7、控制櫃；
8、電源櫃；
9、變壓器櫃；
10、水冷系統。





UMP-500 裝置的工作原理。

風扇、蒸發器、真空系統連接管以及加熱屏（馬弗）的支架安裝在底座 5 上，底座 5 是真空室 1 的下部。加熱屏（馬弗）3 是由耐化學腐蝕板材焊接而成的薄壁圓筒。升降機構4用於將真空室安裝到基座1上或從基座1上拆卸。真空室內部設有電爐段2，電爐段配備隔熱屏和三相電阻加熱器，由變壓器櫃10供電。真空系統6通過閥門3和4將爐膛和馬弗爐內抽真空後，將爐膛加熱。均壓閥16處於開啟狀態。除了測量加熱屏（馬弗爐）腔體內外的壓力外，還透過差壓計15測量這些壓力之間的差值，差壓計15發出的信號作用於控制系統7，控制系統7控制真空系統的閥門，以保持馬弗爐內外壓力平衡。當爐膛加熱並啟動蒸發器時，均壓閥16關閉，真空系統透過閥門13和14關閉。

蒸發過程中，馬弗爐內工作空間的壓力升高。控制系統透過控制惰性氣體洩漏口 12 以及必要時控制旁通閥 13，保持體積壓力平衡，從而消除馬弗爐壁上的機械負荷。消除工作溫度下壓力差對馬弗爐壁造成的機械負荷，顯著延長了其使用壽命。此外，薄壁馬弗爐的熱質量較小，可以透過多區域加熱器更有效地維持工作空間的溫度。變壓器櫃、真空室和底座由水冷系統 11 冷卻，水來自車間循環技術供水網路。該裝置的電氣系統配備了現代化的啟動、調節和自動保護裝置，安裝在電源櫃 8 內。

循環風扇 19、蒸發器 18 以及真空系統的連接管安裝在真空室底座的底部。裝有裝料的設備安裝在風扇上方的特殊支架上。加熱屏（馬弗爐）的內部空間是一個反應器，當化學試劑蒸發加熱時，工作氣體介質會在反應器內產生規定的壓力。此壓力由差壓感測器控制，借助該感測器，透過注入惰性氣體，馬弗爐外部保持一定比例的壓力。氣流由風扇循環。在製程循環過程中，可以透過控制風扇馬達的變頻來改變氣流。

爐料的製程參數自動記錄，並在控制電腦的硬碟上形成必要的存檔文件，構成爐料護照。
真空系統由一台機械前真空幫浦和一台羅茨幫浦、閥門、管道以及必要的真空和壓力感測器組成。