真空爐「SShV8-S」用於石墨製品的真空滲矽

真空爐「SShV8-S」用於石墨製品的真空滲矽

描述

真空爐「SShV8-S」用於石墨製品的真空滲矽

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SShV8-S真空爐專為石墨製品真空滲矽製程設計。

SShV8-S真空爐的操作流程如下:將工件在真空中加熱至一定溫度,在石墨坩堝中熔化石英,然後透過噴淋方式將熔融的石英從坩堝中噴淋到旋轉台上產品的表面。

SShV8-S真空爐的組成:
1. 上蓋
2. 下蓋
3. 加熱室
4. 升降翻轉機構
5. 上料裝置
6. 電氣接線
7. 電源櫃
8. 控制櫃
9. 操作台
10. 爐蓋控制面板
11. 真空系統
12. 水冷系統
13. 氣動系統
14. 地基
15. 過爐橋
16. 氬氣入口坡道

該裝置的設計是一個位於支架上的真空加熱室。圓柱形加熱室有一個上蓋和一個下蓋。升降和旋轉機構從側面連接到加熱室。上蓋連接到升降機構。該機構用於升降和旋轉蓋子,以便對加熱室進行維護。

裝載裝置位於加熱室底部的支架下方。下蓋連接到裝載裝置上。下蓋可以隨裝載裝置上下移動,也可以沿著縱向移動,以便將碳化石墨產品安裝到下蓋的旋轉台上。裝載裝置具有沿著位於底座中的導軌移動的機構。

裝載裝置的升降機構可將下蓋壓緊到加熱室並密封。在碳化過程中,下蓋和上蓋均處於壓緊位置,與加熱室緊密貼合。

真空系統連接在加熱室上。

氣動系統、水冷系統和氬氣進氣坡道位於天橋下方。

加熱室加熱器和下蓋的電源櫃、控制櫃、操作面板和變壓器位於天橋側面。電氣佈線系統元件位於加熱室本身和天橋上。

上橢圓形蓋由不銹鋼製成,並帶有水冷夾套。蓋上設有觀察窗、安全閥、管道以及用於連接到蓋板升降和旋轉機構的支架。

隔熱材料由碳石墨複合材料製成,透過專用吊架固定在蓋板內部。

下橢圓形蓋由不銹鋼製成,並帶有水冷夾套。蓋板上安裝了三根水冷電流導線的管道。旋轉機構和熱電偶安裝在下蓋底部。隔熱材料固定在下蓋內側的專用支架上。下蓋由碳石墨複合材料製成。石墨加熱器位於工作台下方,連接到電流導線。工作台透過專用工具連接到旋轉機構。在碳化過程中,工作台透過安裝在下蓋底部的旋轉機構旋轉。電流導線和旋轉機構的軸心均採用真空密封,確保密封性。下蓋透過專用支架連接到裝載裝置上。

圓柱形加熱室由不銹鋼製成,並帶有水冷夾套。加熱室垂直安裝在立柱上,並透過位於立柱頂部的四個支架固定。加熱室配有三根冷卻電流導線和一個用於測量溫度的熱電偶。加熱室內部安裝有由碳複合石墨材料製成的隔熱層,隔熱層連接到鋼絲網上。支架上的鋼絲網與隔熱層一起固定在加熱室主體上。加熱室配有必要的碳石墨材料製成的支架,石墨加熱器安裝在支架上。加熱室設有一根用於連接到真空系統的支管。

升降翻轉機構由一對螺桿和一個支架組成,頂蓋固定在支架上。支架經由旋轉槽插入導管內。帶有電動馬達的變速箱從下方連接到導管上。整個升降翻轉機構垂直安裝在加熱室主體上。

裝載裝置是一個有四個輪子的平台,其中兩個為驅動輪,透過鏈條傳動裝置由一個共用的軸連接到行走減速器。平台上設有兩個矩形柱狀千斤頂。柱內設有一對螺旋副,透過錐齒輪與升降機構軸連接。柱上設有凹槽和導軌,支架沿著此導軌移動。支架固定在下蓋板上。裝載裝置沿著位於基礎上的軌道移動。

電線的設計用於從變壓器向加熱器供電,並為帶電驅動裝置的機構控制電路供電。電線包括母線、線束以及用於敷設電線的保護罩和接線盒。

電源櫃、控制櫃、操作員控制台和蓋板控制面板的設計旨在確保安裝過程中製程的不間斷運作和控制。

真空系統用於在腔體中形成真空,並在冷卻產品時將惰性氣體引入腔體。該系統由預真空抽氣管線和增壓抽氣管線組成。

抽氣坡道用於將惰性氬氣引入腔體。

氣動系統用於控制真空閥的氣動驅動。氣動系統由空氣準備裝置、氣動分配器面板和管線組成。

水冷系統用於在製程模式下供應和排出冷卻真空幫浦系統所需的水。水冷系統分為兩個迴路,由壓力歧管和排水歧管組成。一個迴路冷卻真空系統,另一個迴路冷卻蓋底夾套、腔體電流引線、晶閘管和腔體本身。




主要技術特點

最高溫度,°C
2000
矽熔體溫度,°C
1600
極限殘餘壓力,Pa (mmHg)
6,65*10 -1 (5*10 -3)
洩漏量,lPa/s (l.mmHg/s)
0.7 (5.25)
工作空間尺寸 (Ø*H),mm
1300*1000
工件尺寸 (Ø*H),mm
1250*1000
達到工作溫度時間,h
3
矽化時間,h
1 - 1.5
冷卻水消耗量,m 3/h
15
腔體容量,m 3
5.65
外形尺寸(長*寬*高),mm
7200*7430*5120
噪音等級,dBa
80
電源電壓,V
400
標稱頻率,赫茲
50
相數
3
裝機功率,千瓦
420
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